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文献
J-GLOBAL ID：200902251936837470
整理番号：04A0174904
スパッタリングによるプラスチック基板へのITO薄膜の高速蒸着
High Rate Deposition of ITO Thin Films on Plastic Substrate by Sputtering
KATO H
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa)
,
FUNATSU K
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa)
,
HOSHI Y
(Tokyo Inst. Polytechnics, Kanagawa)
資料名：
Transactions of the Materials Research Society of Japan
(Transactions of the Materials Research Society of Japan)
巻： 28 号： 4 ページ： 1137-1140 発行年： 2003年12月
JST資料番号： L4468A ISSN： 1382-3469 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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