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文献
J-GLOBAL ID:200902252634328328   整理番号:06A0578543

液浸リソグラフィーにおける欠陥形成に対するフォトレジスト/トップコートの特性の効果

The Effect of Photoresist/Topcoat Properties on Defect Formation in Immersion Lithography
著者 (8件):
WALLRAFF G. M.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
LARSON C. E.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
BREYTA G.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
SUNDBERG L.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
MILLER D.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
GIL D.
(IBM Albany Nanotech, NY)
PETRILLO K.
(IBM Albany Nanotech, NY)
PIERSON W.
(ASML Netherlands B.V.)

資料名:
Proceedings of SPIE  (Proceedings of SPIE)

巻: 6153  号: Pt.1  ページ: 61531M.1-61531M.10  発行年: 2006年 
JST資料番号: D0943A  ISSN: 0277-786X  CODEN: PSISDG  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 原著論文  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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