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文献
J-GLOBAL ID：200902252634328328
整理番号：06A0578543
液浸リソグラフィーにおける欠陥形成に対するフォトレジスト/トップコートの特性の効果
The Effect of Photoresist/Topcoat Properties on Defect Formation in Immersion Lithography
WALLRAFF G. M.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
LARSON C. E.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
BREYTA G.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
SUNDBERG L.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
MILLER D.
(IBM Almaden Res. Center, CA)
,
GIL D.
(IBM Albany Nanotech, NY)
,
PETRILLO K.
(IBM Albany Nanotech, NY)
,
PIERSON W.
(ASML Netherlands B.V.)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6153 号： Pt.1 ページ： 61531M.1-61531M.10 発行年： 2006年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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