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文献
J-GLOBAL ID：200902253390250212
整理番号：05A0868384
混晶生成による光反応性の調節 III トポ化学的に不利な配座への変化による光異性化の遅延
Modified Photoreactivity Due to Mixed Crystal Formation. III. Decelerated Photoisomerization upon Topochemically Unfavorable Conformational Change
VITHANA Champika
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
UEKUSA Hidehiro
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
SEKINE Akiko
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
OHASHI Yuji
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
資料名：
Crystal Growth & Design
(Crystal Growth & Design)
巻： 5 号： 5 ページ： 1755-1760 発行年： 2005年09月
JST資料番号： W1323A ISSN： 1528-7483 CODEN： CGDEFU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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