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文献
J-GLOBAL ID：200902254037310135
整理番号：05A0581510
パルスレーザ堆積を用いた高保磁力Sm-Co薄膜のエピタキシャル成長
Epitaxial growth of highly coercive Sm-Co thin films using pulsed laser deposition
SINGH A.
(IFW Dresden, Dresden, DEU)
,
TAMM R.
(Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
,
NEU V.
(IFW Dresden, Dresden, DEU)
,
FAEHLER S.
(IFW Dresden, Dresden, DEU)
,
OERTEL C.-G.
(Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
,
SKROTZKI W.
(Dresden Univ. Technol., Dresden, DEU)
,
SCHULTZ L.
(IFW Dresden, Dresden, DEU)
,
HOLZAPFEL B.
(IFW Dresden, Dresden, DEU)
資料名：
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻： 97 号： 9 ページ： 093902.1-093902.5 発行年： 2005年05月01日
JST資料番号： C0266A ISSN： 0021-8979 CODEN： JAPIAU 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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