文献
J-GLOBAL ID:200902254836898854
整理番号:04A0701413
テンプレート合成アプローチを経た非リソグラフィー的なSiO2ナノドットアレイ
Nonlithographic SiO2 Nanodot Arrays via Template Synthesis Approach
著者 (6件):
CHA Y K
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
,
SEO D
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
,
YOO I K
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
,
PARK S
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
,
JEONG S-H
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
,
CHUNG C W
(Inha Univ., Incheon, KOR)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
43
号:
8A
ページ:
5657-5659
発行年:
2004年08月15日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)