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文献
J-GLOBAL ID:200902254836898854   整理番号:04A0701413

テンプレート合成アプローチを経た非リソグラフィー的なSiO2ナノドットアレイ

Nonlithographic SiO2 Nanodot Arrays via Template Synthesis Approach
著者 (6件):
CHA Y K
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
SEO D
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
YOO I K
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
PARK S
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
JEONG S-H
(Samsung Advanced Inst. of Technol. (SAIT), Suwon, KOR)
CHUNG C W
(Inha Univ., Incheon, KOR)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 43  号: 8A  ページ: 5657-5659  発行年: 2004年08月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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