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文献
J-GLOBAL ID：200902254837621325
整理番号：05A0413131
プラズマ前処理した磁気層上に堆積した極薄B-C-N保護膜のミクロトライボロジー特性
Microtribological properties of B-C-N extremely thin protective films deposited on plasma pretreated magnetic layers
MIYAKE Shojiro
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
,
WANG Mei
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
,
SAITOH Tadashi
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
,
WATANABE Shuichi
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
資料名：
Surface & Coatings Technology
(Surface & Coatings Technology)
巻： 195 号： 2/3 ページ： 214-226 発行年： 2005年05月31日
JST資料番号： D0205C ISSN： 0257-8972 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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