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文献
J-GLOBAL ID:200902254837621325   整理番号:05A0413131

プラズマ前処理した磁気層上に堆積した極薄B-C-N保護膜のミクロトライボロジー特性

Microtribological properties of B-C-N extremely thin protective films deposited on plasma pretreated magnetic layers
著者 (4件):
MIYAKE Shojiro
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
WANG Mei
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
SAITOH Tadashi
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)
WATANABE Shuichi
(Nippon Inst. of Technol., Miyashiro, JPN)

資料名:
Surface & Coatings Technology  (Surface & Coatings Technology)

巻: 195  号: 2/3  ページ: 214-226  発行年: 2005年05月31日 
JST資料番号: D0205C  ISSN: 0257-8972  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: オランダ (NLD)  言語: 英語 (EN)
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