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文献
J-GLOBAL ID:200902255860078422   整理番号:05A0852207

高誘電率ゲート絶縁膜とメタルゲート電極との界面反応の評価

著者 (10件):
喜多祐起
(大阪大 大学院工学研究科)
吉田慎一
(大阪大 大学院工学研究科)
渡辺康匡
(大阪大 大学院工学研究科)
志村考功
(大阪大 大学院工学研究科)
渡部平司
(大阪大 大学院工学研究科)
安武潔
(大阪大 大学院工学研究科)
赤坂泰志
(半導体先端テクノロジーズ)
奈良安雄
(半導体先端テクノロジーズ)
中村邦雄
(半導体先端テクノロジーズ)
山田啓作
(早稲田大)

資料名:
精密工学会大会学術講演会講演論文集  (精密工学会大会シンポジウム資料集)

巻: 2005  号: 秋季(CD-ROM)  ページ: J44  発行年: 2005年09月01日 
JST資料番号: Y0914A  資料種別: 会議録 (C)
記事区分: 短報  発行国: 日本 (JPN)  言語: 日本語 (JA)
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