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J-GLOBAL ID：200902256447396846 整理番号：04A0563959

アルカリ水溶液中のSi(100)表面上へのNiの析出機構

Deposition Mechanism of Ni on Si(100) Surfaces in Aqueous Alkaline Solution

著者 (3件)：

NIWA D

(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

HOMMA T

(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

OSAKA T

(Waseda Univ., Tokyo, JPN)

資料名：

Journal of Physical Chemistry B (Journal of Physical Chemistry B)

巻： 108 号： 28 ページ： 9900-9904 発行年： 2004年07月15日
JST資料番号： W0921A ISSN： 1520-6106 CODEN： JPCBFK 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：アメリカ合衆国 (USA) 言語：英語 (EN)

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