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文献
J-GLOBAL ID：200902256744714083
整理番号：05A0391918
グレースケールリソグラフィーと深い反応性イオンエッチングを用いた三次元シリコンMEMS構造体の微細加工
Microfabrication of 3D silicon MEMS structures using gray-scale lithography and deep reactive ion etching
WAITS C. M.
(Univ. Maryland, MD, USA)
,
MORGAN B.
(Univ. Maryland, MD, USA)
,
KASTANTIN M.
(Univ. Maryland, MD, USA)
,
GHODSSI R.
(Univ. Maryland, MD, USA)
資料名：
Sensors and Actuators. A. Physical
(Sensors and Actuators. A. Physical)
巻： A119 号： 1 ページ： 245-253 発行年： 2005年03月28日
JST資料番号： B0345C ISSN： 0924-4247 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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