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J-GLOBAL ID：200902256970440549 整理番号：06A0183634

表面波マイクロ波プラズマ化学蒸着で成長した窒素化炭素薄膜の光電特性に及ぼすメタンガス流速の影響

Effects of methane gas flow rate on the optoelectrical properties of nitrogenated carbon thin films grown by surface wave microwave plasma chemical vapor deposition

著者 (6件)：

RUSOP M.

(Dep. of Environmental Technol. and Urban Planning, Nagoya Inst. of Technol., Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, JPN)

ADHIKARI S.

(Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Chubu Univ., Matsumoto-cho 1200, Kasugai 487-8501, JPN)

OMER A.m.m.

(Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Chubu Univ., Matsumoto-cho 1200, Kasugai 487-8501, JPN)

SOGA T.

(Dep. of Environmental Technol. and Urban Planning, Nagoya Inst. of Technol., Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, JPN)

JIMBO T.

(Res. Center for Nano-Device and System, Nagoya Inst. of Technol., Gokiso-cho, Showa-ku, Nagoya 466-8555, JPN)

UMENO M.

(Dep. of Electronic Engineering, Fac. of Engineering, Chubu Univ., Matsumoto-cho 1200, Kasugai 487-8501, JPN)

資料名：

Diamond and Related Materials (Diamond and Related Materials)

巻： 15 号： 2-3 ページ： 371-377 発行年： 2006年02月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：原著論文発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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