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文献
J-GLOBAL ID：200902257263707136
整理番号：09A0235924
湿式法によるZnO膜の成長に及ぼすシリコン基板表面の影響
Effect of the surface of a silicon substrate on the growth of ZnO films by a wet process
SEGAWA Hiroyo
(Dep. of Chemistry and Materials Sci., Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol.)
,
IZUMI Reiko
(Central Res. Inst. Naka Res. Center, Mitsubishi Materials Corp.)
,
HAYASHI Toshiharu
(Central Res. Inst. Naka Res. Center, Mitsubishi Materials Corp.)
,
YANO Tetsuji
(Dep. of Chemistry and Materials Sci., Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol.)
,
SHIBATA Shuichi
(Dep. of Chemistry and Materials Sci., Graduate School of Sci. and Engineering, Tokyo Inst. of Technol.)
資料名：
Journal of the Ceramic Society of Japan
(Journal of the Ceramic Society of Japan)
巻： 117 号： 1363 ページ： 289-293 (J-STAGE) 発行年： 2009年
JST資料番号： F0382A ISSN： 1882-0743 CODEN： JCSJEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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