文献
J-GLOBAL ID:200902258137863730
整理番号:06A0786464
低圧酸素プラズマ中の高周波バイアス電極におけるSi(001)のイオン衝撃誘起改質の動力学 その場分光エリプソメトリーとモンテカルロ研究
Dynamics of ion bombardment-induced modifications of Si(001) at the radio-frequency-biased electrode in low-pressure oxygen plasmas: In situ spectroscopic ellipsometry and Monte Carlo study
著者 (4件):
AMASSIAN A.
(Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...)
,
SVEC M.
(Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...)
,
DESJARDINS P.
(Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...)
,
MARTINU L.
(Regroupement quebecois sur les materiaux de pointe (RQMP) and Dep. of Engineering Physics, Ecole Polytechnique de ...)
資料名:
Journal of Applied Physics
(Journal of Applied Physics)
巻:
100
号:
6
ページ:
063526-063526-16
発行年:
2006年09月15日
JST資料番号:
C0266A
ISSN:
0021-8979
CODEN:
JAPIAU
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)