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文献
J-GLOBAL ID:200902258261481579   整理番号:04A0447889

将来の超LSI相互接続に対する,多層カーボンナノチューブならびに「Ti電極との端部結合Ohm接触」の同時形成

Simultaneous Formation of Multiwall Carbon Nanotubes and their End-Bonded Ohmic Contacts to Ti Electrodes for Future ULSI Interconnects
著者 (4件):
NIHEI M
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
HORIBE M
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
KAWABATA A
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
AWANO Y
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 43  号: 4B  ページ: 1856-1859  発行年: 2004年04月30日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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