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文献
J-GLOBAL ID：200902258261481579
整理番号：04A0447889
将来の超LSI相互接続に対する,多層カーボンナノチューブならびに「Ti電極との端部結合Ohm接触」の同時形成
Simultaneous Formation of Multiwall Carbon Nanotubes and their End-Bonded Ohmic Contacts to Ti Electrodes for Future ULSI Interconnects
NIHEI M
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
,
HORIBE M
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
,
KAWABATA A
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
,
AWANO Y
(Fujitsu Ltd., Atsugi, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 43 号： 4B ページ： 1856-1859 発行年： 2004年04月30日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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