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文献
J-GLOBAL ID：200902258573479393
整理番号：05A0249442
モノリシックSi/III-V-N族合金OEICのための基本デバイス,回路およびプロセス
Elemental devices, circuits and processed for a monolithic Si/III-V-N alloy OEIC.
YONEZU H
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
FURUKAWA Y
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
ABE H
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
YOSHIKAWA Y
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
MOON S-Y
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
UTSUMI A
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
YOSHIZUMI Y
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
WAKAHARA A
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
OHTANI M
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
資料名：
Optical Materials
(Optical Materials)
巻： 27 号： 5 ページ： 799-803 発行年： 2005年02月
JST資料番号： W0468A ISSN： 0925-3467 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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