文献
J-GLOBAL ID:200902258746079442
整理番号:05A0656174
パルスレーザ蒸着により作製したNiドープCu2O膜の電気及び構造特性
Electrical and structural properties of Ni-doped Cu2O films prepared by pulsed laser deposition
著者 (2件):
KIKUCHI N.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
TONOOKA K.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
486
号:
1-2
ページ:
33-37
発行年:
2005年08月22日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)