文献
J-GLOBAL ID:200902258811776342
整理番号:04A0794093
高密度セラミックターゲットを使ったSrTiO3基板上への高品質(K,Na)NbO3薄膜のパルスレーザ堆積
Pulsed Laser Deposition of High-Quality (K,Na)NbO3 Thin Films on SrTiO3 Substrate Using High-Density Ceramic Targets
著者 (4件):
SAITO T
(Ryukoku Univ., Outsu, JPN)
,
WADA T
(Ryukoku Univ., Outsu, JPN)
,
ADACHI H
(Matsushita Electric Ind. Co., Ltd., Kyoto, JPN)
,
KANNO I
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻:
43
号:
9B
ページ:
6627-6631
発行年:
2004年09月30日
JST資料番号:
G0520B
ISSN:
0021-4922
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
英語 (EN)