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文献
J-GLOBAL ID：200902258949755176
整理番号：05A0404713
蛇行線構造層状FeSiB/Cu/FeSiB薄膜における応力-インピーダンス効果
Stress-impedance effects in layered FeSiB/Cu/FeSiB films with a meander line structure
ZHOU Yong
(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
,
MAO Xin-Hui
(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
,
CHEN Ji-An
(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
,
WEN DING
(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
,
GAO Xiao-Yu
(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
,
ZHOU Zhi-Min
(Shanghai Jiao Tong Univ., Shanghai, CHN)
資料名：
Journal of Magnetism and Magnetic Materials
(Journal of Magnetism and Magnetic Materials)
巻： 292 ページ： 255-259 発行年： 2005年04月
JST資料番号： H0644A ISSN： 0304-8853 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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