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文献
J-GLOBAL ID：200902259491488528
整理番号：03A0701042
薄膜と基盤の間の界面応力と特異性の熱弾性解析
THERMOELASTIC ANALYSIS OF INTERFACIAL STRESS AND STRESS SINGULARITY BETWEEN A THIN FILM AND ITS SUBSTRATE
TAKAHASHI M
(Akita Univ., Akita, JPN)
,
SHIBUYA Y
(Akita Univ., Akita, JPN)
資料名：
Journal of Thermal Stresses
(Journal of Thermal Stresses)
巻： 26 号： 10 ページ： 963-976 発行年： 2003年10月
JST資料番号： A0101B ISSN： 0149-5739 CODEN： JTSTDA 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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