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文献
J-GLOBAL ID：200902259682412777
整理番号：09A0812760
近接場光化学蒸着を用いたナノ作製の新しい展望
New Aspects in Nanofabrication Using Near-Field Photo-Chemical Vapor Deposition
KOBAYASHI Kiyoshi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KOBAYASHI Kiyoshi
(JST-CREST, Kofu, JPN)
,
SATO Arata
(Tokyo Inst. Technol., Tokyo, JPN)
,
YATSUI Takashi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KAWAZOE Tadashi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
OHTSU Motoichi
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
OHTSU Motoichi
(JST-SORST, Tokyo, JPN)
資料名：
Applied Physics Express
(Applied Physics Express)
巻： 2 号： 7 ページ： 075504.1-075504.3 発行年： 2009年07月25日
JST資料番号： F0599C ISSN： 1882-0778 CODEN： APEPC4 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 短報 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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