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文献
J-GLOBAL ID：200902259953088350
整理番号：03A0509042
バイア-ファーストデュアルダマスク工程(Via-First Dual Damascene Process,部分充填BARC法)におけるレジスト毒作用の除去
Elimination of Resist Poisoning in Via-First Dual Damascene Processes
NAGAHARA S
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
FUJIMOTO M
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
YAMANA M
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
WATANABE S
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
SHIBA K
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
,
TOMINAGA M
(NEC Electronics Corp., Kanagawa, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16 号： 3 ページ： 351-361 発行年： 2003年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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