文献
J-GLOBAL ID:200902260109774395
整理番号:07A1042820
マスク上の単一SU-8層を用いたオリフィス付高アスペクト比埋込微小チャネルの高速製造法
RAPID FABRICATION PROCESS FOR HIGH ASPECT-RATIO EMBEDDED MICROCHANNELS WITH ORIFICES USING A SINGLE SU-8 LAYER ON A MASK
著者 (7件):
SUZUKI T.
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
TOKUDA T.
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
YAMAMOTO H.
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
OHOKA M.
(Advanced Software Technol. & Mechatronics Res. Inst. Kyoto, Kyoto, JPN)
,
KANNO I.
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
,
WASHIZU M.
(Univ. Tokyo, Tokyo, JPN)
,
KOTERA H.
(Kyoto Univ., Kyoto, JPN)
資料名:
Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems
(Technical Digest. IEEE Micro Electro Mechanical Systems)
巻:
19th Vol.1
ページ:
346-349
発行年:
2006年
JST資料番号:
W0377A
ISSN:
1084-6999
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)