文献
J-GLOBAL ID:200902260514098682
整理番号:09A0531508
高強度陽電子マイクロビームを用いた欠陥分布の迅速な三次元イメージング
Rapid three-dimensional imaging of defect distributions using a high-intensity positron microbeam
著者 (7件):
OSHIMA N.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
SUZUKI R.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
OHDAIRA T.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
KINOMURA A.
(National Inst. of Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), 1-1-1 Umezono, Tsukuba, Ibaraki 305-8568, JPN)
,
NARUMI T.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
UEDONO A.
(Inst. of Applied Physics, Univ. of Tsukuba, Tsukuba, Ibaraki 305-8573, JPN)
,
FUJINAMI M.
(Dep. of Applied Chemistry, Chiba Univ., 1-33 Yayoi, Inage, Chiba 263-8552, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
94
号:
19
ページ:
194104
発行年:
2009年05月11日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)