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文献
J-GLOBAL ID:200902260529241805   整理番号:09A1243593

直接ワイドバンドギャップCuScO2エピタキシャル薄膜の励起子特性

Excitonic characteristics in direct wide-band-gap CuScO2 epitaxial thin films
著者 (5件):
HIRAGA H.
(WPI Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
MAKINO T.
(WPI Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
FUKUMURA T.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
OHTOMO A.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
KAWASAKI M.
(WPI Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 95  号: 21  ページ: 211908  発行年: 2009年11月23日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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