文献
J-GLOBAL ID:200902260529241805
整理番号:09A1243593
直接ワイドバンドギャップCuScO2エピタキシャル薄膜の励起子特性
Excitonic characteristics in direct wide-band-gap CuScO2 epitaxial thin films
著者 (5件):
HIRAGA H.
(WPI Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
,
MAKINO T.
(WPI Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
,
FUKUMURA T.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
,
OHTOMO A.
(Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
,
KAWASAKI M.
(WPI Advanced Inst. for Materials Res., Tohoku Univ., Sendai 980-8577, JPN)
資料名:
Applied Physics Letters
(Applied Physics Letters)
巻:
95
号:
21
ページ:
211908
発行年:
2009年11月23日
JST資料番号:
H0613A
ISSN:
0003-6951
CODEN:
APPLAB
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
短報
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)