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文献
J-GLOBAL ID：200902260683535277
整理番号：06A0932038
X線反射率測定によるTiN/HfSiON界面の熱安定性評価
川村浩太
(大阪大 大学院工学研究科)
,
三島永嗣
(大阪大 大学院工学研究科)
,
志村考功
(大阪大 大学院工学研究科)
,
渡部平司
(大阪大 大学院工学研究科)
,
安武潔
(大阪大 大学院工学研究科)
,
神山聡
(半導体先端テクノロジーズ)
,
赤坂泰志
(半導体先端テクノロジーズ)
,
奈良安雄
(半導体先端テクノロジーズ)
,
中村邦雄
(半導体先端テクノロジーズ)
,
山田啓作
(早稲田大)
資料名：
精密工学会大会学術講演会講演論文集
(精密工学会大会シンポジウム資料集)
巻： 2006 号： 春季(CD-ROM) ページ： I04 発行年： 2006年03月01日
JST資料番号： Y0914A 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 短報 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
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