文献
J-GLOBAL ID:200902261059036947
整理番号:03A0413785
酸素プラズマエッチングとエラストママスクを用いた化学吸着した細胞接着忌避膜のマイクロパターン
Micropatterns of Chemisorbed Cell Adhesion-Repellent Films Using Oxygen Plasma Etching and Elastomeric Masks
著者 (8件):
BARBER T
(Univ. California at Berkeley, California)
,
WICKES B T
(Univ. Washington, Washington)
,
HIRDES D
(Univ. Washington, Washington)
,
GRIN B
(Univ. Washington, Washington)
,
CASTNER D G
(Univ. Washington, Washington)
,
HEALY K E
(Univ. California at Berkeley, California)
,
FOLCH A
(Univ. Washington, Washington)
,
TOUROVSKAIA A
(Univ. Washington, Washington)
資料名:
Langmuir
(Langmuir)
巻:
19
号:
11
ページ:
4754-4764
発行年:
2003年05月27日
JST資料番号:
A0231B
ISSN:
0743-7463
CODEN:
LANGD5
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)