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文献
J-GLOBAL ID：200902261444979259
整理番号：08A0420417
低動作温度で高いH2感度を有する多孔質SnO2スパッタ膜
Porous SnO2 sputtered films with high H2 sensitivity at low operation temperature
SHEN Yanbai
(Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
YAMAZAKI Toshinari
(Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
LIU Zhifu
(Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
JIN Chengji
(Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
KIKUTA Toshio
(Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
,
NAKATANI Noriyuki
(Fac. of Engineering, Univ. of Toyama, 3190 Gofuku, Toyama 930-8555, JPN)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 516 号： 15 ページ： 5111-5117 発行年： 2008年06月02日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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