文献
J-GLOBAL ID:200902261520753893
整理番号:07A0731100
高NA193nmリソグラフィーのスピンオン三重層手法
Spin-on trilayer approaches to high NA 193nm lithography
著者 (15件):
ABDALLAH D. J.
(AZ Electronic Materials)
,
MCKENZIE D.
(AZ Electronic Materials)
,
TIMKO A.
(AZ Electronic Materials)
,
DIOSES A.
(AZ Electronic Materials)
,
HOULIHAN F.
(AZ Electronic Materials)
,
RAHMAN D.
(AZ Electronic Materials)
,
MIYAZAKI S.
(AZ Electronic Materials)
,
ZHANG R.
(AZ Electronic Materials)
,
KIM W.
(AZ Electronic Materials)
,
WU H.
(AZ Electronic Materials)
,
PYLNEVA L.
(AZ Electronic Materials)
,
LU P-H.
(AZ Electronic Materials)
,
NEISSER M.
(AZ Electronic Materials)
,
DAMMEL R. R.
(AZ Electronic Materials)
,
BIAFORE J. J.
(KLA Tencor)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6519
号:
Pt.1
ページ:
65190M.1-65190M.13
発行年:
2007年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)