文献
J-GLOBAL ID:200902261634744983
整理番号:05A0450654
残留ガス暴露後のSi及びHfCエミッタアレイに関する放出統計
Emission statistics for Si and HfC emitter arrays after residual gas exposure
著者 (6件):
NICOLAESCU D.
(AIST, Ibaraki, JPN)
,
NAGAO M.
(AIST, Ibaraki, JPN)
,
SATO T.
(Tsukuba Univ., Ibaraki, JPN)
,
FILIP V.
(Univ. Bucharest, Bucharest, ROM)
,
KANEMARU S.
(AIST, Ibaraki, JPN)
,
ITOH J.
(AIST, Ibaraki, JPN)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻:
23
号:
2
ページ:
707-717
発行年:
2005年03月
JST資料番号:
E0974A
ISSN:
1071-1023
CODEN:
JVTBD9
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)