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文献
J-GLOBAL ID：200902262855708732
整理番号：07A0731233
二重パターン形成リソグラフィーによるピッチ倍加 集積とリト予算における課題
Pitch Doubling Through Dual Patterning Lithography Challenges in Integration and Litho Budgets
DUSA Mircea
(ASML US Inc., CA, USA)
,
QUAEDACKERS John
,
LARSEN Olaf F. A.
,
MEESSEN Jeroen
,
VAN DER HEIJDEN Eddy
,
DICKER Gerald
,
WISMANS Onno
,
DE HAAS Paul
,
VAN INGEN SCHENAU Koen
,
FINDERS Jo
,
VLEEMING Bert
(ASML Netherlands B. V., Veldhoven, NLD)
,
STORMS Geert
,
JAENEN Patrick
,
CHENG Shaunee
,
MAENHOUDT Mireille
(IMEC, Leuven, BEL)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 6520 号： Pt.1 ページ： 65200G.1-65200G.10 発行年： 2007年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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