文献
J-GLOBAL ID:200902263890546466
整理番号:08A0649857
ダイツーデータベース検査ツール(NGR2100)を用いてリソグラフィープロセスウィンドウを拡大するための系統的欠陥評価を実行する新しいロバストなプロセスウィンドウ検証(PWQ)技術
A New Robust Process Window Qualification (PWQ) Technique to Perform Systematic Defect Characterization to Enlarge the Lithographic Process Window, using a Die-to-Database Verification Tool (NGR2100).
著者 (8件):
KITAMURA Tadashi
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
HASEBE Toshiaki
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
KUBOTA Kazufumi
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
SAKAI Futoshi
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
NAKAZAWA Shinichi
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
HOFFMAN Michael J.
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
YAMAMOTO Masahiro
(NanoGeometry Res. Inc., Tokyo, JPN)
,
INOUE Masahiro
(Topcon Corp., Tokyo, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6925
ページ:
692519.1-692519.5
発行年:
2008年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)