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文献
J-GLOBAL ID：200902264738618253
整理番号：09A1257156
シリコン酸化物層をもつ界面での有機サブナノ層によるAg薄膜の改善された熱安定性
Improved Thermal Stability of Ag Thin Films by Organic Subnanolayer at Interface with Silicon Oxide Layer
KAWAMURA Midori
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
FUDEI Terumasa
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
ABE Yoshio
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
,
SASAKI Katsutaka
(Kitami Inst. Technol., Hokkaido, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics
(Japanese Journal of Applied Physics)
巻： 48 号： 11 ページ： 118002.1-118002.2 発行年： 2009年11月25日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 CODEN： JJAPB6 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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