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文献
J-GLOBAL ID：200902265167719916
整理番号：05A0703655
RFマグネトロンスパッタリングにより(001)Si基板上に成長させた様々な方位を持つエピタキシャルPt膜
Epitaxial Pt Films with Different Orientations Grown on (100)Si Substrates by RF Magnetron Sputtering
OKAMOTO Shoji
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
WATANABE Takayuki
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
AKIYAMA Kensuke
(Kanagawa Industrial Technol. Res. Inst., Kanagawa, JPN)
,
KANEKO Satoru
(Kanagawa Industrial Technol. Res. Inst., Kanagawa, JPN)
,
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
,
HORITA Susumu
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)
資料名：
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers
(Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)
巻： 44 号： 7A ページ： 5102-5106 発行年： 2005年07月15日
JST資料番号： G0520B ISSN： 0021-4922 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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