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文献
J-GLOBAL ID:200902265167719916   整理番号:05A0703655

RFマグネトロンスパッタリングにより(001)Si基板上に成長させた様々な方位を持つエピタキシャルPt膜

Epitaxial Pt Films with Different Orientations Grown on (100)Si Substrates by RF Magnetron Sputtering
著者 (6件):
OKAMOTO Shoji
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
WATANABE Takayuki
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
AKIYAMA Kensuke
(Kanagawa Industrial Technol. Res. Inst., Kanagawa, JPN)
KANEKO Satoru
(Kanagawa Industrial Technol. Res. Inst., Kanagawa, JPN)
FUNAKUBO Hiroshi
(Tokyo Inst. Technol., Yokohama, JPN)
HORITA Susumu
(Japan Advanced Inst. Sci. and Technol., Ishikawa, JPN)

資料名:
Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers  (Japanese Journal of Applied Physics. Part 1. Regular Papers, Short Notes & Review Papers)

巻: 44  号: 7A  ページ: 5102-5106  発行年: 2005年07月15日 
JST資料番号: G0520B  ISSN: 0021-4922  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 原著論文  発行国: 日本 (JPN)  言語: 英語 (EN)
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