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文献
J-GLOBAL ID：200902265890365413
整理番号：08A0840655
カソードマグネトロンプラズマ処理を用いて窒素をドープしたTiO2薄膜の光触媒活性
Photocatalytic activity of TiO2 thin films doped with nitrogen using a cathodic magnetron plasma treatment
YAMADA Kenji
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
,
YAMANE Hirokazu
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
,
MATSUSHIMA Shigenori
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
,
NAKAMURA Hiroyuki
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
,
SONODA Tatsuhiko
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
,
MIURA Satoshi
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
,
KUMADA Kiyoshi
(Dep. of Materials Sci. and Chemical Engineering, Kitakyushu National Coll. of Technol., 5-20-1 Shii, Kokuraminami-ku ...)
資料名：
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻： 516 号： 21 ページ： 7560-7564 発行年： 2008年09月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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