文献
J-GLOBAL ID:200902266425300115
整理番号:09A0717203
フルオロカーボンエッチプラズマ中の気相化学と表面過程の関係
Relationship between gas-phase chemistries and surface processes in fluorocarbon etch plasmas: A process rate model
著者 (4件):
SANT S. P.
(Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080)
,
NELSON C. T.
(Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080)
,
OVERZET L. J.
(Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080)
,
GOECKNER M. J.
(Electrical Engineering, Univ. of Texas at Dallas, 800 W Campbell, Richardson, Texas 75080)
資料名:
Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films
(Journal of Vacuum Science & Technology. A. Vacuum, Surfaces and Films)
巻:
27
号:
4
ページ:
631
発行年:
2009年07月
JST資料番号:
C0789B
ISSN:
0734-2101
CODEN:
JVTAD6
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)