文献
J-GLOBAL ID:200902266487451829
整理番号:05A0661543
Hf(O-t-C4H9)4を用いた光アシストMOCVDによるHfO2薄膜の作製と評価
Characterization of HfO2 Thin Films Prepared from Hf(O-t-C4H9)4 by Photo-Assisited MOCVD
著者 (4件):
金島岳
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
多田泰三
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
津森正樹
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
,
奥山雅則
(大阪大 大学院基礎工学研究科)
資料名:
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻:
105
号:
109(SDM2005 70-86)
ページ:
51-56
発行年:
2005年06月03日
JST資料番号:
S0532B
ISSN:
0913-5685
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
日本 (JPN)
言語:
日本語 (JA)