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文献
J-GLOBAL ID：200902266529923912
整理番号：04A0098223
多層マイクロエレクトロメカニカルシステムカンチレバー素子における残留膜応力変形の軽減対策
Mitigation of residual film stress deformation in multilayer microelectromechanical systems cantilever devices
PULSKAMP J S
(U.S. Army Res. Lab., Maryland)
,
WICKENDEN A
(U.S. Army Res. Lab., Maryland)
,
POLCAWICH R
(U.S. Army Res. Lab., Maryland)
,
PIEKARSKI B
(U.S. Army Res. Lab., Maryland)
,
DUBEY M
(U.S. Army Res. Lab., Maryland)
,
SMITH G
(Naval Surface Warfare Center, Maryland)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 21 号： 6 ページ： 2482-2486 発行年： 2003年11月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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