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J-GLOBAL ID：200902266798156081 整理番号：03A0471242

反応性イオン化スパッタリングを用いたMgO堆積

MgO deposition using reactive ionized sputtering

著者 (4件)：

MATSUDA Y

(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)

KOYAMA Y

(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)

TASHIRO K

(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)

FUJIYAMA H

(Nagasaki Univ., Nagasaki, JPN)

資料名：

Thin Solid Films (Thin Solid Films)

巻： 435 号： 1/2 ページ： 154-160 発行年： 2003年07月01日
JST資料番号： B0899A ISSN： 0040-6090 資料種別：逐次刊行物 (A)
記事区分：短報発行国：オランダ (NLD) 言語：英語 (EN)

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