文献
J-GLOBAL ID:200902267116568428
整理番号:04A0749816
炭化けい素とサファイア基板上の高N2圧力下でのガリウム中の溶液からのバルクGaNの析出
Deposition of bulk GaN from solution in gallium under high N2 pressure on silicon carbide and sapphire substrates
著者 (9件):
BOCKOWSKI M
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
GRZEGORY I
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
KRUKOWSKI S
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
LUCZNIK B
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
WROBLEWSKI M
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
KAMLER G
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
BORYSIUK J
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
KWIATKOWSKI P
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
,
JASIK K
(High Pressure Res. Centre, PAS, Warsaw, POL)
資料名:
Journal of Crystal Growth
(Journal of Crystal Growth)
巻:
270
号:
3/4
ページ:
409-419
発行年:
2004年10月01日
JST資料番号:
B0942A
ISSN:
0022-0248
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)