文献
J-GLOBAL ID:200902267212279798
整理番号:05A0257897
アルカリ水溶液中におけるSi(100)表面上でのNiの沈着挙動
Deposition Behavior of Ni on Si(100) Surfaces in an Aqueous Alkaline Solution
著者 (3件):
NIWA D
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
HOMMA T
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
,
OSAKA T
(Waseda Univ., Tokyo, JPN)
資料名:
Journal of the Electrochemical Society
(Journal of the Electrochemical Society)
巻:
152
号:
2
ページ:
C54-C59
発行年:
2005年
JST資料番号:
C0285A
ISSN:
1945-7111
CODEN:
JESOAN
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)