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文献
J-GLOBAL ID：200902267657571332
整理番号：05A0713936
大気圧下での触媒増強気相エピタクシーによるATカット面結晶石英膜の成長
Growth of crystalline quartz films with AT-cut plane by means of catalyst-enhanced vapor-phase epitaxy under atmospheric pressure
TAKAHASHI Naoyuki
(Dep. of Materials Sci. and Technol., Fac. of Engineering, Shizuoka Univ., 3-5-1 Johoku, Hamamatsus, Shizuoka 432-8561 ...)
,
NAKUMURA Takato
(Dep. of Materials Sci. and Technol., Fac. of Engineering, Shizuoka Univ., 3-5-1 Johoku, Hamamatsus, Shizuoka 432-8561 ...)
,
NONAKA Satoshi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
,
KUBO Yoshinori
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
,
SINRIKI Yoichi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
,
TAMANUKI Katsumi
(Humo Lab. Co., 5-9-11 Nishiogi-Kita, Suginami-ku, Tokyo 167-0042, JPN)
資料名：
Journal of Physics and Chemistry of Solids
(Journal of Physics and Chemistry of Solids)
巻： 66 号： 7 ページ： 1145-1149 発行年： 2005年07月
JST資料番号： C0202A ISSN： 0022-3697 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： イギリス (GBR) 言語： 英語 (EN)
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