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文献
J-GLOBAL ID：200902268170820643
整理番号：03A0508991
i-ライン及びg-ラインに感受性のある光酸発生剤の合成ならびにそれらのフォトポリマシステムへの適用
Synthesis of i- and g-Line Sensitive Photoacid Generators and Their Application to Photopolymer Systems
IWASHIMA C
(Kansai Paint Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
IMAI G
(Kansai Paint Co., Ltd., Kanagawa, JPN)
,
OKAMURA H
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TSUNOOKA M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
SHIRAI M
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Photopolymer Science and Technology
(Journal of Photopolymer Science and Technology)
巻： 16 号： 1 ページ： 91-96 発行年： 2003年
JST資料番号： L0202A ISSN： 0914-9244 CODEN： JSTEEW 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 英語 (EN)
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