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文献
J-GLOBAL ID：200902268445722523
整理番号：07A1107877
酸-塩基二段階触媒ゾル-ゲル法と中空粒子形成により作製したポリフェニルシルセスキオキサン粒子の構造
Structure of Polyphenylsilsesquioxane Particles Prepared by Two-Step Acid-Base Catalyzed Sol-Gel Process and Formation of Hollow Particles
TAKAHASHI Kenji
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
TADANAGA Kiyoharu
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
HAYASHI Akitoshi
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
,
MATSUDA Atsunori
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
KATAGIRI Kiyofumi
(Toyohashi Univ. Technol., Aichi, JPN)
,
TATSUMISAGO Masahiro
(Osaka Prefecture Univ., Osaka, JPN)
資料名：
Journal of Nanoscience and Nanotechnology
(Journal of Nanoscience and Nanotechnology)
巻： 7 号： 9 ページ： 3307-3312 発行年： 2007年09月
JST資料番号： W1351A ISSN： 1533-4880 CODEN： JNNOAR 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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