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文献
J-GLOBAL ID：200902268617852777
整理番号：08A0372847
H/Si(100)表面からの300K流出D2ビームの散乱
Scattering of 300K effusive D2 beams from the H/Si(100) surface
UENO S.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
NARITA Y.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
KHAN A.r.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
KIHARA Y.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
,
NAMIKI A.
(Dep. of Electrical Engineering, Kyushu Inst. of Technol., Kitakyushu 804-8550, JPN)
資料名：
Surface Science
(Surface Science)
巻： 602 号： 8 ページ： 1585-1588 発行年： 2008年04月15日
JST資料番号： C0129B ISSN： 0039-6028 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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