文献
J-GLOBAL ID:200902268945350916
整理番号:07A0959875
45nm HPノードのための電子ビームマスクライターEBM-6000
Electron-beam mask writer EBM-6000 for 45nm HP node
著者 (18件):
YASHIMA Jun
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
OHTOSHI Kenji
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
NAKAYAMADA Noriaki
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
ANZE Hirohito
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
KATSUMATA Takehiko
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
IIJIMA Tomohiro
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
NISHIMURA Rieko
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
FUKUTOME Syuuichiro
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
MIYAMOTO Nobuo
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
WAKE Seiji
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
SAKAI Yusuke
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
SAKAMOTO Shinji
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
HARA Shigehiro
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
HIGURASHI Hitoshi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
HATTORI Kiyoshi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
SAITO Kenichi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
KENDALL Rodney
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
,
TAMAMUSHI Shuichi
(NuFlare Technol., Inc., Yokohama, JPN)
資料名:
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻:
6607
号:
Pt.1
ページ:
660703.1-660703.8
発行年:
2007年
JST資料番号:
D0943A
ISSN:
0277-786X
CODEN:
PSISDG
資料種別:
会議録 (C)
記事区分:
原著論文
発行国:
アメリカ合衆国 (USA)
言語:
英語 (EN)