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文献
J-GLOBAL ID：200902269572946755
整理番号：04A0857663
nsパルスUVレーザーを用いたレーザー誘導後面湿式エッチングによるシリカガラスの表面微小構造化:自己形成単一層を用いた機能材料の微細パターン作成への応用
Surface micro-structuring of silica glass by laser-induced backside wet etching using ns-pulsed UV lasers: application into micropatterning of functional materials using self-assembled monolayers
NIINO H
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
DING X
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KAWAGUCHI Y
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
SATO T
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
NARAZAKI A
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
,
KUROSAKI R
(National Inst. Advanced Industrial Sci. and Technol. (AIST), Ibaraki, JPN)
資料名：
Proceedings of SPIE
(Proceedings of SPIE)
巻： 5662 ページ： 18-23 発行年： 2004年
JST資料番号： D0943A ISSN： 0277-786X CODEN： PSISDG 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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