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文献
J-GLOBAL ID:200902269970029266   整理番号:06A0156799

不揮発性メモリ応用に対するSrTiOx薄膜の可逆抵抗スイッチング

Reversible resistive switching of SrTiOx thin films for nonvolatile memory applications
著者 (5件):
CHOI Dooho
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Gwangju Inst. of Sci. and Technol. (GIST), Gwangju 500-712, KOR)
LEE Dongsoo
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Gwangju Inst. of Sci. and Technol. (GIST), Gwangju 500-712, KOR)
SIM Hyunjun
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Gwangju Inst. of Sci. and Technol. (GIST), Gwangju 500-712, KOR)
CHANG Man
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Gwangju Inst. of Sci. and Technol. (GIST), Gwangju 500-712, KOR)
HWANG Hyunsang
(Dep. of Materials Sci. and Engineering, Gwangju Inst. of Sci. and Technol. (GIST), Gwangju 500-712, KOR)

資料名:
Applied Physics Letters  (Applied Physics Letters)

巻: 88  号:ページ: 082904-082904-3  発行年: 2006年02月20日 
JST資料番号: H0613A  ISSN: 0003-6951  CODEN: APPLAB  資料種別: 逐次刊行物 (A)
記事区分: 短報  発行国: アメリカ合衆国 (USA)  言語: 英語 (EN)
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