前のページに戻る
この文献は全文を取り寄せることができます
JDreamⅢ複写サービスから文献全文の複写（冊子体のコピー）をお申込みできます。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です。
既に、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDをお持ちの方
JDreamⅢ複写サービスのご利用が初めての方
取り寄せる文献のタイトルと詳細
文献
J-GLOBAL ID：200902270573960946
整理番号：04A0859934
ラジカル窒化酸化膜におけるNの深さ分布と結合状態の制御
Control of nitrogen depth profile and chemical bonding state in radical nitrided silicon oxide film.
河瀬和雅
(三菱電機 先端技術総合研)
,
梅田浩司
(ルネサステクノロジ 生産技術本部)
,
井上真雄
(ルネサステクノロジ 生産技術本部)
,
諏訪智之
(東北大 大学院工学研究科)
,
樋口正顕
(東北大 大学院工学研究科)
,
小村政則
(東北大 大学院工学研究科)
,
寺本章伸
(東北大 未来科学技術共同研究セ)
,
大見忠弘
(東北大 未来科学技術共同研究セ)
資料名：
電子情報通信学会技術研究報告
(IEICE Technical Report (Institute of Electronics, Information and Communication Engineers))
巻： 104 号： 336(SDM2004 173-179) ページ： 27-32 発行年： 2004年10月07日
JST資料番号： S0532B ISSN： 0913-5685 資料種別： 会議録 (C)
記事区分： 原著論文 発行国： 日本 (JPN) 言語： 日本語 (JA)
JDreamⅢ複写サービスとは
JDreamⅢ複写サービスは、学術文献の全文を複写（コピー）して取り寄せできる有料サービスです。インターネットに公開されていない文献や、図書館に収録されていない文献の全文を、オンラインで取り寄せることができます。J-GLOBALの整理番号にも対応しているので、申し込みも簡単にできます。全文の複写（コピー）は郵送またはFAXでお送りします
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。
※ご利用には、G-Searchデータベースサービスまたは、JDreamⅢのIDが必要です
※初めてご利用される方は、JDreamⅢ複写サービスのご案内をご覧ください。