文献
J-GLOBAL ID:200902270961449340
整理番号:03A0542463
急速熱処理による窒化タンタル薄膜の形成
Formation of tantalum nitride films by rapid thermal processing
著者 (5件):
ANGELKORT C
(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt am Main, DEU)
,
BERENDES A
(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt am Main, DEU)
,
LEWALTER H
(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt am Main, DEU)
,
BOCK W
(IFOS Univ. Kaiserslautern, Kaiserslautern, DEU)
,
KOLBESEN B O
(Johann Wolfgang Goethe-Univ., Frankfurt am Main, DEU)
資料名:
Thin Solid Films
(Thin Solid Films)
巻:
437
号:
1/2
ページ:
108-115
発行年:
2003年08月01日
JST資料番号:
B0899A
ISSN:
0040-6090
資料種別:
逐次刊行物 (A)
記事区分:
原著論文
発行国:
オランダ (NLD)
言語:
英語 (EN)