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文献
J-GLOBAL ID：200902270979983122
整理番号：04A0726877
p-GaN中のSi拡散
Si diffusion in p-GaN
PAN C J
(National Central Univ., Taoyuan, TWN)
,
CHI G C
(National Central Univ., Taoyuan, TWN)
,
PONG B J
(National Central Univ., Taoyuan, TWN)
,
SHEU J K
(National Central Univ., Taoyuan, TWN)
,
CHEN J Y
(National Central Univ., Taoyuan, TWN)
資料名：
Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures
(Journal of Vacuum Science & Technology. B. Microelectronics and Nanometer Structures)
巻： 22 号： 4 ページ： 1727-1730 発行年： 2004年07月
JST資料番号： E0974A ISSN： 1071-1023 CODEN： JVTBD9 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： アメリカ合衆国 (USA) 言語： 英語 (EN)
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