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文献
J-GLOBAL ID：200902271101339390
整理番号：05A0995542
表面波プラズマCVDにより蒸着した非晶質炭素薄膜の特性化
Characterization of amorphous carbon films deposited by surface wave plasma CVD
AKASAKA Hiroki
(Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN)
,
OHTAKE Naoto
(Dep. of Mechanical Sciences and Engineering, Tokyo Inst. of Technol., 2-12-1 O-Okayama, Meguro-ku, Tokyo, 152-8552, JPN)
資料名：
Diamond and Related Materials
(Diamond and Related Materials)
巻： 14 号： 11-12 ページ： 1828-1831 発行年： 2005年11月
JST資料番号： W0498A ISSN： 0925-9635 資料種別： 逐次刊行物 (A)
記事区分： 原著論文 発行国： オランダ (NLD) 言語： 英語 (EN)
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